在半導體設備中，無論是通過氣體、化學品還是水，各類材料中的雜質都可能會影響最終產品的性能、穩定性和良率。對于半導體設備本身而言，化學品的潔凈程度對設備的利用效率，性能和運行成本至關重要。化學品發生污染會影響生產效率，甚至影響芯片良率。因此污染控制是半導體制造中最重要的問題之一。
良好的過濾工藝除了可將污染物降至最低，避免芯片受到影響，確保機臺以峰值效率進行工作外，還可以降低耗材更換頻率， 延長開機時間，降低生產成本。
選擇過濾工藝需要考慮到的因素很多，在確保過濾精度的同時，還要考慮過濾效率，設備壽命等，本文主要討論過濾精度。
01 公稱精度和絕對精度
在判定過濾器性能的時候，我們經常會提到一個概念：公稱精度和絕對精度。
公稱精度的概念較早。早期對污染物的衡量方法是稱重，這是一個重量分析實驗。
公稱精度的定義是，給定一個尺寸，測量過濾前后大于或等于給定尺寸所有顆粒的某一去除重量百分數，由過濾器廠商指定的有爭議的微米數值。
公稱精度作為過濾精度標準存在一定的局限性。
O 有爭議的微米級過濾精度
O 由制造商自己制定的標準
O 去除重量百分比
O 可變的、不可再現的下游流體質量
O 非固定孔結構
一般過濾器廠家給出的公稱精度是大于規定尺寸的污染物的98%的重量已經被去除，污染物重量的2%流入下游。但一些生產商卻以95%，90%或更低的污染物去除率為基礎。因此，選擇時須要查看生產廠家公稱精度所依據的標準。
球形顆粒直徑差1倍，體積差8倍。直徑100um的球形顆粒體積是50um的8倍。直徑100um的球形顆粒體積是1um的一百萬倍! 如果是同種物質，1um的球形顆粒質量為1g，100um的就是1000kg!所以攔截一個大顆粒，其重量太大，相當于攔截大量小顆粒的重量。
02 絕對過濾精度
絕對精度是指在指定溫度、壓力等試驗條件下能夠通過過濾器的最大剛性球形顆粒的直徑。它是過濾器元件中最大開孔的標志。
以專用玻璃微珠為試驗介質通過被試過濾器。借助顯微鏡測定濾過液中最大顆粒的尺寸確定為該過濾器的絕對過濾精度。
部分制造商聲稱，絕對精度指 100% 截留任意指定大小的顆粒雜質。但是，以上數據的前提是理想實驗室條件、一致的顆粒大小、恒定的流量和恒定的顆粒雜質挑戰。事實上，對任何一種過濾器而言，這幾乎是一個不可能達到，而且不實際的標準，因為100%是一個無窮大的值。市面上通稱的絕對過濾器如薄膜等，嚴格地說，只能稱"趨近于絕對"的過濾器。
03 過濾比β
上世紀80年代，過濾比β值概念提出。1981年ISO4572標準頒發，按標準可測出過濾比β。
將試驗標準粉塵混入試驗液使其通過被試過濾器，在濾前濾后測出某尺寸顆粒數量，濾前數比濾后數的比值表該尺寸顆粒被濾除效率。其比值與過濾精度成正比。
例如：檢測濾芯上游，尺寸大于5微米的顆粒物數量為10個。經過濾芯過濾后，下游測得的5微米以上的顆粒物數量為1個，那么相對于5微米這個精度級別，濾芯的過濾比就是10/1=10，標示為β5 =10。
過濾比β能確切地反映過濾器分離全粒徑固 體顆粒群的能力?？朔瞬Ａ⒅榉ㄖ环从匙畲箢w粒控制能力而忽略了其它各尺寸顆?？刂颇芰Α?br />
但測試過濾比β值需要具備昂貴的顆粒計數儀和較復雜的試驗臺。
04 小結
公稱精度、絕對精度、過濾比β均可表示過濾器的過濾精度，但各自都有一定的局限性，且在實際應用過程中，我們還需要考慮到流量、壓差、溫度、兼容性等等因素，因此建議經過嚴謹的周期驗證再投入使用。
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